权利要求保护范围的确定

文章来源: 中国知识产权报/中国知识产权资讯网
发布时间: 2019/5/30 10:16:00

  【弁言小序】


  请求人苹果电脑贸易(上海)有限公司(下称苹果公司)就专利权人高通股份有限公司(下称高通公司)的名称为“具有高密度的局部互连结构的电路及其制造方法”(专利号:ZL201480013124.1)的发明专利权提出无效宣告请求。


  这是高通公司和苹果公司系列无效宣告请求案件中唯一涉及集成电路芯片结构和工艺的案件,在北京市高级人民法院审理的相应侵权纠纷标的额为1亿元。


  原专利复审委员会经审理,作出第37129号无效宣告请求审查决定,维持专利权有效。


  在上述无效宣告请求案中,双方当事人的争议焦点之一是如何理解和认定技术术语的含义,准确确定权利要求的保护范围,进而判断权利要求限定的技术方案是否满足新颖性和创造性。


  【理念阐述】


  专利权作为一种知识产权,通过权利要求向社会公示其保护范围,并作为侵权判定的依据。


  对于权利要求保护范围的确定,我国专利法第五十九条第一款和《专利审查指南》第二部分第二章给出了相关规定。专利法第五十九条第一款规定:发明或者实用新型的保护范围以其权利要求的内容为准,说明书及附图可以用于解释权利要求的内容。


  《专利审查指南》(2010)第二部分第二章第3.2.2节规定:“每项权利要求所确定的保护范围应当清楚。权利要求的保护范围应当根据其所用词语的含义来理解。一般情况下,权利要求中的用词应当理解为相关技术领域通常具有的含义。在特定情况下,如果说明书中指明了某词具有特定的含义,并且权利要求的保护范围由于说明书中对该词的说明而被限定得足够清楚,这种情况也是允许的。”


  作为权利要求保护范围确定的一般原则,在确定权利要求的保护范围时,首先应当准确站位本领域技术人员。作为本领域技术人员,应当知晓申请日或优先权日之前所述技术领域的普通技术知识,了解本领域的技术发展状况。其次,应当从技术的角度考量权利要求中技术术语的正确含义,避免脱离技术意义字面、机械地理解而导致产生不符合逻辑的解释。


  【案例演绎】


  一、技术术语的含义一般应当理解为相关技术领域通常具有的含义


  具体到本案,本案的争议焦点之一是“关于‘根据第二栅极层与第三栅极层之间的栅极层间距来安排第一栅极层’含义是否清楚的问题”。


  对此,确定权利要求的保护范围时,应当准确站位本领域技术人员,把握技术实质。一般情况下,权利要求中的用词应当理解为本专利的申请日或优先权日之前本技术领域通常具有的含义。


  作为本领域技术人员,应当知晓申请日或优先权日之前所属技术领域的普通技术知识,了解本领域的技术发展状况。


  在本领域中描述两个晶体管的栅极之间距离关系的技术术语是“栅极间距”而不是“栅极层间距”。虽然“栅极层间距”没有采用本领域的标准技术术语,但整体考量本专利权利要求书和说明书的技术内容,本领域的技术人员可以理解“栅极层间距”实质上表达的是“栅极间距”。


  从本专利优先权日之前应掌握的普通技术知识的角度来看,本领域技术人员普遍知晓栅极间距是指两个相邻晶体管的两个栅极之间的距离。


  在本专利的优先权日前,从本领域的技术发展状况来看,随着半导体芯片中集成的晶体管数量的不断增加,半导体工艺已从亚微米工艺、深亚微米工艺、超深亚微米工艺发展到了纳米工艺,相应的半导体工艺尺寸变得越来越小,晶体管的分布更密集。本领域技术人员知晓对于特征尺寸较大的工艺,栅极间距不是需要重点考量的因素,但随着特征尺寸变小,会产生一系列影响器件性能的效应。此时,栅极间距便成为表征晶体管技术的关键指标,成为电路设计时重点考量的因素之一。


  本专利的说明书已经明确指出本专利涉及深亚微米工艺技术,在此特征尺寸下,本领域技术人员应当知晓根据电路结构、设计规则和工艺条件等合理布局安排各晶体管的结构,并知晓如何根据第二栅极层与第三栅极层间距来安排第一栅极层。


  综合考量本领域通用的含义、本领域的技术发展状况、本领域技术人员应掌握的普通技术知识和应具备的能力,并结合说明书的记载和相应的图示,“根据第二栅极层与第三栅极层间距来安排第一栅极层”的含义是清楚的。


  二、如果说明书中指明了某词具有特定的含义,且使用了该词的权利要求的保护范围足够清楚,则应按照说明书的特别界定理解权利要求用语的含义


  1.本领域中没有明确含义但说明书给出了界定


  本案的争议焦点之二是“栅极切割层”含义是否清楚的问题。


  对于双方当事人存在争议的权利要求的技术术语,虽然该术语在本领域中没有明确的定义,但本专利说明书中的记载指明了其具有的特定的含义,应当以说明书的界定理解权利要求用语的含义。


  就本案而言,“栅极切割层”在本领域中没有通用的含义,但是说明书中对其有相应界定。


  结合说明书中的文字记载以及附图可知,“栅极切割层”的含义是通过与多个栅极层相交,将多个栅极层电隔离成相互不导通的两段栅极层。因此,上述技术术语含义是清楚的。


  2.技术术语在本领域中具有通常含义,但说明书中有特定含义时,应按照说明书的特别界定理解权利要求用语的含义


  本案的争议焦点之三是“级2互连”“第一级2栅极定向局部互连”和“第一级1栅极定向局部互连”的含义是否清楚。


  对于双方当事人存在争议的权利要求的技术术语,虽然该术语在本领域中有明确的定义,但本专利说明书中的记载指明了其具有的特定含义,应当以说明书的界定理解权利要求用语的含义。


  具体到本案,在本领域中,互连和局部互连有通用的含义。


  在集成电路芯片上各元件制造完成后,淀积金属薄膜,并通过光刻技术形成布线,把相互隔离的元件按一定要求互连成所需电路,这就是集成电路的内部互连,通常叫做互连。随着集成电路集成度的提高,结构日趋复杂,金属互连已从简单向复杂、从单层向多层发展。互连线大致分为三种:局部互连线、模块间互连线和全局互连线。全局互连线是指布置在高层,宽度、厚度以及间距大的连线;模块间互连线是指布置在低层,密集和较薄的连线,是功能模块之间的连线;局部互连的定义是局部功能单元之间的连线。


  但是“级2互连”“第一级2栅极定向局部互连”和“第一级1栅极定向局部互连”没有通用的含义,但本专利的说明书和部分附图中有明确的界定。


  综合本领域中优先权日之前互连和局部互连的定义、互连技术的发展趋势,并通过阅读说明书以及附图的图示,本领域技术人员可以知晓本专利涉及集成电路的半导体基板与第一金属层之间的局部互连,将半导体基板与第一金属层之间细分为三级局部互连,分别为级1、级2和级3,本专利是对级1和级3之间的级2局部互连结构进行的改进,“局部互连”是“级2局部互连”的简略表达。“级2互连”是指位于级1和级3之间的级2互连,“第一级2栅极定向局部互连”是指多个级2栅极定向局部互连中的第一个,“第一级1栅极定向局部互连”是指多个级1栅极定向局部互连中的第一个。


  因此,上述技术术语含义清楚。


  由上述分析过程可见,在确定技术术语含义时,首先应当准确站位本领域技术人员,在此基础上根据本领域通常的含义以及说明书的记载准确认定权利要求的技术术语的含义,继而确定权利要求的保护范围。


  事实上,无论是在授权确权程序还是侵权程序中,权利要求保护范围的认定都是得出正确结论的基础。确权程序准确界定权利要求的保护范围,为后续的侵权程序判定得出正确结论奠定了基础,它作为授权程序和侵权程序之间的重要环节,在纠正不当授权和确认权利效力、助力专利权保护、有效衔接不同程序等方面发挥着重要作用。(国家知识产权局专利局复审和无效审理部 沈丽)

 

(编辑:晏如)

 

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